ჩვენი მთავარი პროდუქტები: ამინოს სილიკონი, ბლოკის სილიკონი, ჰიდროფილური სილიკონი, მათი სილიკონის ყველა ემულსი, ჭუჭყიანი სისწრაფე, წყლის repellent (ფლუორინი უფასო, ნახშირბადის 6, ნახშირბადის 8), დემინის სარეცხი ქიმიკატები (ABS, ფერმენტები, Spandex Protector, Manganese Remover) ძირითადი საექსპორტო ქვეყნები: ინდოეთი, პაკისტანი, ინდონეზია, უზბეკეთი და ა.შ.

 

ქიმიური წარმოების პროცესში, სხვადასხვა მიზეზების გამო, მტვერი და ჭუჭყიანი, როგორიცაა პოლიმერები, ქოქოსი, ზეთი და მტვერი, მასშტაბები, ნალექი და კოროზიული პროდუქტები შეიძლება მოხდეს აღჭურვილობისა და მილსადენებში. ეს სერიოზულად მოქმედებს აღჭურვილობის გამოყენებაზე, ამიტომ ძალიან მნიშვნელოვანია ქიმიური აღჭურვილობის გაწმენდა.

ქიმიური აღჭურვილობის გაწმენდა მოიცავს ორ ტიპს: ონლაინ გაწმენდა და ხაზგარეშე გაწმენდა.

 

ონლაინ გაწმენდა

გამოიყენეთ გამაგრილებელი კოშკი მოცირკულირე წყლის სისტემაში, როგორც დოზირების ყუთი, რომ დაამატოთ ქიმიკატები სისტემაში ბუნებრივი მიმოქცევისთვის.

უპირატესობები: მოწყობილობებს არ სჭირდება დახურვა და არ იმოქმედებს ნორმალურ წარმოებაზე და გამოყენებაზე.

მინუსი: დასუფთავების ეფექტი არ არის ძალიან კარგი ხაზგარეშე გაწმენდისთან შედარებით. გაწმენდის ხანგრძლივი დრო და აღჭურვილობის კოროზიის მნიშვნელოვანი საფრთხეები.

 

Off-line სარეცხი

ეს ეხება კომპონენტების განადგურების პროცესს, რომლებიც უნდა გაიწმინდოს აღჭურვილობიდან ან მილს

ხაზგარეშე გაწმენდა შეიძლება დაიყოს ფიზიკურ დასუფთავებაში და ქიმიური გაწმენდით.

ფიზიკური გაწმენდა: გამოიყენეთ მაღალი წნევის გაშვებული წყალი, რომ გაწმენდის მოწყობილობები. საჭიროა მაღალი წნევის დასუფთავების მოწყობილობა.

ქიმიური გაწმენდა: ამოიღეთ სითბოს exchanger ცალკე და დააკავშირეთ მოცირკულირე წყლის შესასვლელი და გამავალი მილსადენები საწმენდი მანქანაზე მიმოქცევისთვის. ქიმიურ გაწმენდას აქვს შემდეგი მახასიათებლები:

უპირატესობები: მედიკამენტების დოზა და კარგი დასუფთავების ეფექტი.

უარყოფითი მხარეები: საჭიროა შესაბამისი მოწყობილობები, როგორიცაა მანქანების დასუფთავება ან წყლის ავზები, მაღალი წნევის ტუმბოები, სარქველების დამაკავშირებელი, შედუღების მოწყობილობების სხვადასხვა სპეციფიკაციები და ა.შ.

 

ქიმიური გაწმენდის ორი ფორმა არსებობს: მჟავების სარეცხი და ტუტე რეცხვის.

ტუტე სარეცხი: ძირითადად გამოიყენება ორგანული ნივთიერებების, მიკროორგანიზმების, ნავთობის ლაქების და სხვა დანართების მოსაშორებლად მოწყობილობებში, მაგალითად, ჟანგის ინჰიბიტორები, რომლებიც გამოიყენება აღჭურვილობის დამონტაჟების დროს. ტუტე რეცხვას ასევე შეუძლია როლი შეასრულოს არაორგანული მარილების შესუსტება, შესუსტება, ემულსირება და დაშლა. საერთო დასუფთავების აგენტები მოიცავს ნატრიუმის ჰიდროქსიდს, ნატრიუმის კარბონატს, ტრიზოდიუმის ფოსფატს და ა.შ.

მჟავას სარეცხი: ძირითადად, არაორგანული მარილების დეპონირების მოსაშორებლად, მაგალითად, კარბონატები, სულფატები, სილიციუმის სასწორები და ა.შ. საერთო საწმენდი საშუალებები მოიცავს ორგანულ მჟავებს, როგორიცაა ჰიდროქლორის მჟავა, გოგირდმჟავა და ჰიდროფლუორული მჟავა. ორგანული მჟავები, როგორიცაა ლიმონის მჟავა და ამინო გოგირდმჟავა.

 

რატომ სუფთა ქიმიური აღჭურვილობა?
1. გაწმენდის აუცილებლობა მართვის წინ

მართვის წინ ქიმიური გაწმენდა აუცილებელია წარმოების ეფექტურობის გასაუმჯობესებლად და ჭუჭყის გავლენის თავიდან ასაცილებლად წარმოებაზე. ამიტომ, სანამ ახალი ქიმიური მოწყობილობა ამოქმედდება, ის უნდა გაიწმინდოს დაწყებამდე.

ქიმიური წარმოების პროცესი მოიცავს მრავალ ქიმიურ ნედლეულს და მოითხოვს კატალიზატორების გამოყენებას. გარკვეული ნედლეულის და კატალიზატორების სიწმინდის მოთხოვნები უკიდურესად მაღალია, ამიტომ წარმოების პროცესის დროს აღჭურვილობისა და მილსადენების სისუფთავეა. ნებისმიერ მინარევამ შეიძლება გამოიწვიოს კატალიზატორი მოწამვლა, გვერდითი რეაქციები და კიდევ დააზიანოს მთელი პროცესი. გარდა ამისა, მოწყობილობაში გარკვეულ მოწყობილობებსა და აქსესუარებს აქვთ მაღალი ზუსტი მოთხოვნები ან ძალზე მგრძნობიარეა მინარევების დესტრუქციული ეფექტების მიმართ. ამრიგად, მექანიკური მინარევების ნებისმიერი ჩარევა, სავარაუდოდ, ზიანს აყენებს ზუსტი კომპონენტების ხარისხს და გავლენას ახდენს ნორმალურ წარმოებაზე.

2. დასუფთავების აუცილებლობა მუშაობის დაწყების შემდეგ

ქიმიური მოწყობილობები, როდესაც დიდი ხნის განმავლობაში იყენებენ, შეიძლება წარმოქმნას მტვერი, როგორიცაა პოლიმერები, კოქსინგი, ზეთი და ჭუჭყიანი, წყლის მასშტაბები, ნალექი და კოროზიული პროდუქტები, რომლებიც სერიოზულად მოქმედებენ ქიმიური აღჭურვილობის მუშაობაზე. ქიმიური აღჭურვილობის დროულ გაწმენდას შეუძლია გააფართოვოს მისი მომსახურების სიცოცხლე, გააუმჯობესოს ეფექტურობა, უზრუნველყოს უსაფრთხოება და შეამციროს ეკონომიკური ზარალი.

ასე რომ, მართვის დაწყებამდე თუ გამოყენებამდე, უნდა გაიწმინდოს აღჭურვილობა, რაც აუცილებელი ყოველდღიური მოვლა -პატრონობაა.

 

რა არის დასუფთავების პროცესები ქიმიური აღჭურვილობისთვის?

მომზადება აღჭურვილობის დასუფთავებამდე

გაწმენდის წინ, მოწყობილობებში ან მოწყობილობაში კომპონენტები, რომლებიც მგრძნობიარეა დასუფთავების ხსნარისგან კოროზიისა და დაზიანებისგან, მაგალითად, სარქველების და ნაკადის მრიცხველების რეგულირება, უნდა მოიხსნას, ხოლო ფილტრის ბირთვი (mesh) და ცალმხრივი სარქვლის ბირთვი უნდა მოიხსნას. და უნდა იქნას მიღებული ისეთი ზომები, როგორიცაა დროებითი მოკლე მილების, შემოვლითი ან ბრმა ფირფიტების დამატება იმის უზრუნველსაყოფად, რომ დასუფთავების პროცესში სხვა კომპონენტების გაჟონვა ან დაზიანება არ არსებობს და გაწმენდილი აღჭურვილობის განცალკევება უწმინდური აღჭურვილობისა და მილსადენებისგან.

 

დასუფთავების პროცედურები და პროცესის პირობები

1. დასუფთავების მეთოდი

აღჭურვილობის კონკრეტული სიტუაციის თანახმად, შეიძლება გამოყენებულ იქნას გაჟღენთილი ციკლის გაწმენდა ან სპრეის გაწმენდა.

გაჟღენთილი ციკლის გაწმენდის გამოყენებისას, დაბალი წერტილის შესასვლელი, ამიაკის დაბრუნების ციკლის პროცესი შეიძლება მიიღოთ.

სპრეის გაწმენდის გამოყენებისას შეიძლება მიიღოთ მაღალი წერტილის თხევადი შესასვლელი და დაბალი წერტილის რეფლუქსის პროცესი.

2. დასუფთავების პროცედურა და ქიმიური გაწმენდის ხარისხი, ზოგადად, მოიცავს სისტემის წყლის წნევის გაჟონვის გამოვლენას (წყლის გამონაყარს), გამონაყარის, წყლის გამონაყარის, მჟავების დაბანა, გამრეცხვას, ნეიტრალიზაციას, პასიურობას, შემოწმებას და სახელმძღვანელო მკურნალობას.

ქვემოთ მოცემულია განმარტებები თითოეული პროცესისთვის.

წყლის წნევის გაჟონვის გამოვლენის მიზანია (წყლის გამონაყარი) არის დროებითი სისტემების გაჟონვის სიტუაციის შემოწმება, მტვრის, ნალექების ამოღება, ლითონის ოქსიდები, შედუღების წიდა და სხვა ფხვიერი და ადვილად მოსახსნელი ჭუჭყიანი სისტემიდან.

გაწმენდის მიზანია ნავთობის ლაქების ამოღება, როგორიცაა მექანიკური ზეთი, გრაფიტის ცხიმი, ზეთის საიზოლაციო მასალები და ჟანგიანი ზეთი სისტემიდან, რათა უზრუნველყოს მჟავების დაბანა.

წყლის დაბანის მიზანია, ნარჩენი ტუტე დასუფთავების აგენტების ამოღება სისტემიდან და ამოიღონ გარკვეული მინარევები ზედაპირიდან. ამოიღეთ ობიექტი.

მჟავას სარეცხი მიზანია ხსნადი ნივთიერებების ამოღება მჟავასა და ლითონის ოქსიდებს შორის ქიმიური რეაქციით.

მჟავას რეცხვის შემდეგ წყლით ჩამოიბანების მიზანია ნარჩენი მჟავების სარეცხი ხსნარის ამოღება და მყარი ნაწილაკების ამოღება, რომლებიც სისტემიდან ჩამოვარდნენ გამრეცხვისა და პასივაციის სამკურნალოდ.

გამრეცხვის მიზანია ამონიუმის ციტრატის გამოყენება სისტემაში ნარჩენი რკინის იონებით ჩელიტისთვის და წყლის გამრეცხვის პროცესში წარმოქმნილი მცურავი ჟანგით ამოიღონ, სისტემაში რკინის იონური კონცენტრაციის შემცირება და შემდგომი პასივაციის ეფექტის უზრუნველყოფა.

ნეიტრალიზაციისა და პასივაციის პროცესის მიზანია ნარჩენი მჟავების ხსნარის ამოღება, ხოლო პასივაცია არის ლითონის ზედაპირის თავიდან ასაცილებლად, რომელიც გააქტიურებულ მდგომარეობაშია მჟავას რეცხვის შემდეგ, ხელახალი ჟანგვისა და მეორადი მცურავი ჟანგის წარმოქმნის შემდეგ.

 

დასუფთავება სამუშაოს დაწყების შემდეგ

ქიმიური მოწყობილობა, რომელიც მოქმედებს 1-2 წლის განმავლობაში ან უფრო ხშირად იცავს რკინის ოქსიდის მასშტაბს ან ფოლადის შემცველ მასშტაბს. სპილენძის მასშტაბი შეიცავს სპილენძის ოქსიდს (CUO), ძირითადი სპილენძის კარბონატს [CU2 (OH) 2CO3] და მეტალის სპილენძს.

ზოგადად, ჟანგის მასშტაბის ამოღება შესაძლებელია მჟავას რეცხვით. მჟავა რეცხვის მეთოდი და ნაბიჯები ძირითადად იგივეა, რაც მუშაობის დაწყებამდე აღჭურვილობის გაწმენდის მეთოდი.

როდესაც ჭუჭყში სპილენძის შემცველობა მაღალია, მისი ამოღება შეუძლებელია მარტო მჟავას რეცხვით. აუცილებელია სპილენძის კომპონენტის ამოღება ამიაკის წყლით მჟავას რეცხვის წინ.

სპილენძის და სპილენძის ოქსიდის სასწორები ხშირად ქმნიან ფენიანი დანართებს რკინის ოქსიდებით, რომელთა გაწმენდა რთულია და უნდა გაიწმინდოს ფენიანი დანართების ფორმირებამდე.

 

როგორ გავწმინდეთ სითბოს exchanger?

სითბოს გადამცვლელების დასუფთავება ზოგადად იყოფა ორ კატეგორიად: მექანიკური გაწმენდა და ქიმიური გაწმენდა.

 

მექანიკური გაწმენდა

მექანიკური დასუფთავების მეთოდი ეყრდნობა სითხის ან მექანიკური მოქმედების ნაკადს, რათა უზრუნველყოს ჭუჭყის ადჰეზიური ძალა, რაც იწვევს ჭუჭყს სითბოს გაცვლის ზედაპირიდან განშორებას.

არსებობს ორი ტიპის მექანიკური დასუფთავების მეთოდი: ერთი არის ძლიერი გაწმენდის მეთოდი, მაგალითად, წყლის სპრეის გაწმენდა, ორთქლის სპრეის გაწმენდა, ქვიშაქვის გაწმენდა, სკრაპერი ან საბურღი ბიტის დაღწევა და ა.შ.; კიდევ ერთი ტიპი არის რბილი მექანიკური გაწმენდა, მაგალითად, მავთულის ფუნჯის გაწმენდა და რეზინის ბურთის გაწმენდა. ქვემოთ მოცემულია რამდენიმე მეთოდი:

სპრეის გაწმენდა არის დაღმავალი მეთოდი მაღალი წნევის წყლის გაფრქვევის ან მექანიკური ზემოქმედების გამოყენებით. ამ მეთოდის გამოყენებისას, წყლის წნევა, ზოგადად, 20 ~ 50 მპა. ახლა ასევე უფრო მაღალი წნევაა გამოყენებული 50-70 მპა.

სპრეის გაწმენდა, მსგავსი დიზაინითა და ოპერაციით დასუფთავების დასუფთავების მიზნით, არის მოწყობილობა, რომელიც ასხამს ორთქლს მილში და სითბოს exchanger- ის ჭურვი მხარეებში, რათა ამოიღონ ჭუჭყიანი ზემოქმედება და სითბო.

Sandblasting გაწმენდა არის შეკუმშული ჰაერის (300-350kPa) გამოყენების პროცესი სპრეის იარაღის საშუალებით, რათა წარმოქმნას ძლიერი ხაზოვანი სიჩქარე სკრინირებულ კვარცის ქვიშაზე (ჩვეულებრივ, ნაწილაკების ზომით 3-5 მმ), რომელიც ააფეთქებს გამათბობელის მილის შიდა კედელს, აშორებს ჭუჭყს და აღადგენს მილის ორიგინალური სითბოს გადაცემის მახასიათებლებს.

Scraper ან drill bit descaling, ეს საწმენდი მანქანა მხოლოდ შესაფერისია მილების ან ცილინდრების შიგნით ჭუჭყის დასუფთავებისთვის. მოქნილი მბრუნავი ლილვის ზედა ნაწილში დააინსტალირეთ ჩამონგრეული ან საბურღი ბიტა და გადაიტანეთ სკრაბი ან საბურღი ბიტა შეკუმშული ჰაერით ან ელექტროენერგიით (ასევე წყლის ან ორთქლის გამოყენებით).

რეზინის ბურთის გაწმენდა ხორციელდება გასროლის აფეთქების გამწმენდის გამოყენებით. გასროლის აფეთქების გამწმენდი შედგება სპონგური ბურთისა და სითხის სპრეის იარაღიდან, რომელიც ბურთს მილის შიგნით გაწმენდისკენ უბიძგებს. ბურთი ჭურვივით არის ფორმის და ექსტრაორდინალურია ნახევრად მყარი ქაფის პოლიურეთანის სპონგიდან, რომელიც ელასტიურია.

 

ქიმიური გაწმენდა

ქიმიური გაწმენდის მეთოდი გულისხმობს სითხის დაღმავალი აგენტების, მჟავების, ფერმენტების და ა.შ. დამატებას, რათა შეამციროს ჭუჭყსა და სითბოს გაცვლის ზედაპირს შორის ადჰეზია, რამაც გამოიწვია იგი სითბოს გაცვლის ზედაპირიდან.

გამოყენებული ქიმიური გაწმენდის ამჟამინდელი მეთოდებია:

მიმოქცევის მეთოდი: გამოიყენეთ ტუმბო, რომ აიძულოთ დასუფთავების ხსნარი გაწმენდის მიზნით.

Immersion მეთოდი: შეავსეთ აღჭურვილობა დასუფთავების ხსნარით და მიეცით მას გარკვეული პერიოდის განმავლობაში.

Surge მეთოდი: შეავსეთ მოწყობილობა დასუფთავების ხსნარით, გაასუფთავეთ დასუფთავების ხსნარის ნაწილი ქვედა რეგულარულად ინტერვალებით, შემდეგ კი განთავსებული სითხე დააინსტალირეთ აღჭურვილობაში, რათა მიაღწიოთ აურიეთ და გაწმენდის მიზანს.

 

როგორ გავწმინდეთ რეაქციის ქერქი?

გაწმენდის რეაქციის ჭურჭლის დასუფთავების სამი ძირითადი მეთოდი არსებობს: მექანიკური გაწმენდა, ქიმიური გაწმენდა და სახელმძღვანელო გაწმენდა.

 

მექანიკური გაწმენდა

მექანიკური გაწმენდა: მაღალი წნევის დასუფთავების მოწყობილობის გამოყენებით, მაღალი წნევის წყლის ნაკადი გამოიყენება საქშენების გასაფანტად, რეაქციის გემის შიდა კედელზე და აგიტატორის ზედაპირზე მყარი მასშტაბის დაშლა, საფუძვლიანად კანი და ამოღება.

მაღალი წნევის მქონე წყლის თვითმფრინავის გაწმენდის პრინციპია წყლის შეკუმშვა მაღალ წნევამდე, შემდეგ კი გაათავისუფლოს იგი ჭურჭელში ჩასმული დასუფთავების რობოტზე დამონტაჟებული საქშენებით. წნევა შეიძლება გარდაიქმნას წყლის ნაკადის კინეტიკურ ენერგიად, რამაც შეიძლება გავლენა მოახდინოს კედლის ჭუჭყზე, გაწმენდისა და მოცილების ეფექტების მისაღწევად.
ქიმიური გაწმენდა

პირველ რიგში, აუცილებელია იცოდეთ მასშტაბის ნიმუშის შემადგენლობა რეაქტორული აღჭურვილობის შიგნით, სასურველია შერჩევისა და ანალიზით. ჭუჭყის შემადგენლობის დადგენის შემდეგ, პირველ რიგში ჩაატარეთ ექსპერიმენტები, შეარჩიეთ დასუფთავების აგენტები და დაადასტუროთ ექსპერიმენტებით, რომ ისინი არ გამოიწვევენ კოროზიას აღჭურვილობის მეტალზე. შემდეგ, დროებითი მიმოქცევის მოწყობილობა იქმნება საიტზე, რათა მოხდეს აღჭურვილობის შიგნით დასუფთავების ხსნარი და ჭუჭყის გასაშვებად.

პირველი, ჩამოიბანეთ შერეული დანა და ჭურჭლის შიდა კედელი შესაბამისი რაოდენობით წყლით და მთლიანად გადაწურეთ.

გააფართოვეთ რეაქციის ჭურჭელი გამხსნელთან ერთად ზეწოლა მოწყობილობის მეშვეობით.

თუ დასუფთავების ეფექტი არ არის მიღწეული, დაამატეთ გამხსნელი შესაბამისი რაოდენობა რეაქციის ჭურჭელში, გაათბეთ, აურიეთ და რეფლუქსი, სანამ გაწმენდის მოთხოვნები არ შესრულდება, შემდეგ კი გაათავისუფლეთ გამხსნელი.

დაბოლოს, ჩამოიბანეთ რეაქციის გემის შიდა კედელი გარკვეული რაოდენობით გამხსნელი და გაათავისუფლეთ იგი.

ხელით შესვლა ჭურჭელში და სახელმძღვანელო გაწმენდა

დაბალი ღირებულება მისი ყველაზე დიდი უპირატესობაა, მაგრამ რეაქტორის შესვლამდე მას რამდენიმე საათის განმავლობაში ვენტილაცია და ჰაერის გაცვლა სჭირდება. დასუფთავების პროცესის დროს, ჟანგბადის კონცენტრაცია რეაქტორში უნდა იქნას მონიტორინგი ნებისმიერ დროს, რაც იძლევა ჟანგბადის დეფიციტის რისკს; ამავდროულად, სახელმძღვანელო სკრაპინგი არა მხოლოდ ვერ ახერხებს სრულად გაწმენდას, არამედ იწვევს რეაქციის გემის შიდა კედელზე მოცურების ნიშანს, რაც ობიექტურად იწვევს ნარჩენების შემდგომ გადაბერებას. ჭურჭლის გაწმენდამ ასევე შეიძლება გამოიწვიოს ჰიგიენის პრობლემები პროდუქტთან დაკავშირებით. ზოგადად რომ ვთქვათ, ჭურჭლის გაწმენდას დაახლოებით ნახევარი დღე სჭირდება.

სამივე მეთოდიდან თითოეულს აქვს საკუთარი დადებითი და უარყოფითი მხარეები:

მექანიკური გაწმენდა არ ახდენს აღჭურვილობას და შეუძლია ეფექტურად გაასუფთავოს მყარი მასშტაბები, მაგრამ ამას დიდი დრო სჭირდება და შრომის მაღალი ინტენსივობას მოითხოვს;

ქიმიური გაწმენდა მოითხოვს ნაკლებ შრომას, აქვს მოკლე დასუფთავების დრო და საფუძვლიანად ასუფთავებს, მაგრამ ამან შეიძლება გამოიწვიოს აღჭურვილობის კოროზირება;

დასუფთავების ჭურჭელში ხელით შესვლა დაბალ ფასია, მაგრამ ის საშიშროების მაღალ დონეს ატარებს და მისი მთლიანად გაწმენდა შეუძლებელია.

ამრიგად, ქიმიური გაწმენდა გამოიყენება სამუშაო პირობებში, როდესაც ჭუჭყიანი რბილი და თხელია, ხოლო მექანიკური გაწმენდა გამოიყენება სამუშაო პირობებში, სადაც ჭუჭყიანი მყარი და სქელია.