ჩვენი ძირითადი პროდუქტები: ამინო სილიკონი, ბლოკური სილიკონი, ჰიდროფილური სილიკონი, მათი ყველა სილიკონის ემულსია, დასველების, ხახუნის მდგრადობის გამაძლიერებელი, წყალგაუმტარი (ფტორის გარეშე, ნახშირბადი 6, ნახშირბადი 8), დემინის სარეცხი ქიმიკატები (ABS, ფერმენტი, სპანდექსის დამცავი, მანგანუმის მოსაშორებელი). ძირითადი ექსპორტის ქვეყნები: ინდოეთი, პაკისტანი, ბანგლადეში, თურქეთი, ინდონეზია, უზბეკეთი და ა.შ.
ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების გამრეცხი ეფექტი არის ფუნდამენტური მახასიათებელი, რომელიც ზედაპირულად აქტიურ ნივთიერებებს უდიდეს პრაქტიკულ გამოყენებას ანიჭებს. ის ათასობით ოჯახის ყოველდღიურ ცხოვრებას მოიცავს. ასევე, ის სულ უფრო ხშირად გამოიყენება სხვადასხვა ინდუსტრიასა და სამრეწველო წარმოებაში.
ქიმწმენდა ორგანულ გამხსნელებში რეცხვის მეთოდია, რომელიც იყენებს გამხსნელების ხსნადობას და ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების ხსნადობას ქსოვილის ზედაპირიდან ჭუჭყის მოსაშორებლად. მისი უპირატესობა ის არის, რომ მას შეუძლია თავიდან აიცილოს რეცხვით გამოწვეული შალის და აბრეშუმის ქსოვილების შეუქცევადი შეკუმშვა, ასევე დეფორმაცია და ტანსაცმლის ხელის შეხების ცუდი შეგრძნება.
ქსოვილებზე არსებული ჭუჭყი შეიძლება დაახლოებით სამ ტიპად დაიყოს: ზეთში ხსნადი, წყალში ხსნადი და როგორც ზეთში, ასევე წყალში უხსნადი.
ზეთში ხსნადი ჭუჭყის მოცილება შესაძლებელია უშუალოდ ორგანული გამხსნელებით. გამხსნელები, რომელთა გამოყენებაც შესაძლებელია გასარეცხად, ძირითადად მსუბუქი ნავთობის ნახშირწყალბადებია, რომლებიც ძირითადად შედგება ალიფატური ნახშირწყალბადებისგან, როგორიცაა 1,3-დიეთილციკლოჰექსანი, ციკლოალიფატური ნახშირწყალბადები და 1,2,4-ტრიმეთილფენილარომატული ნახშირწყალბადები. გარდა ამისა, არსებობს ასევე ნახშირბადის ტეტრაქლორიდი, ტრიქლორეთილენი, ტეტრაქლორეთილენი და ა.შ.
წყალში კარგად ხსნადი ან ძლიერი ჰიდროფილურობის მქონე ჭუჭყის მოსაშორებლად, სისტემაში საჭიროა მცირე რაოდენობით წყლისა და ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების დამატება. ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების დამატება ხელს უშლის მყარი ჭუჭყის ხელახლა დალექვას გამხსნელში. ჭუჭყის დისპერსიის სტაბილურობა და სუსპენზია ორგანულ გარემოში აღარ არის დამოკიდებული ნაწილაკებს შორის ელექტროსტატიკურ მოგერიებაზე, არამედ შეიძლება განისაზღვროს ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების ადსორბციით მყარი-სითხე ინტერფეისზე.
ორგანულ გარემოში არსებული ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები მყარ ზედაპირებზე პოლარული ჯგუფების სახით ადსორბირდება, ლიპოფილური ნახშირწყალბადის ჯაჭვებით, რომლებიც ორგანული გამხსნელების ადსორბციული მდგომარეობისკენ არიან ორიენტირებული და მყარ-თხევად ინტერფეისზე ადსორბირდებიან. ამან შეიძლება მყარი ჭუჭყის ზედაპირზე ნახშირბად-წყალბადის ჯაჭვების სოლვაციური ფენა წარმოქმნას, რაც სივრცითი ობსტრუქციისთვის ენერგეტიკულ ბარიერს ქმნის და ქსოვილის ზედაპირზე ჭუჭყის დაგროვებას ან ხელახლა დალექვას უშლის ხელს. წყლის მცირე რაოდენობამ შეიძლება გამოიწვიოს ნაწილაკების და ტექსტილის ზედაპირების ჰიდრატაცია, რაც მათ ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების პოლარულ ჯგუფებთან ურთიერთქმედებას აადვილებს, რაც სასარგებლოა ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების მყარ ზედაპირებზე (განსაკუთრებით პოლარულ ზედაპირებზე) ადსორბციისთვის. ეს სასარგებლოა რეცხვის ეფექტურობის გასაუმჯობესებლად. გარდა ამისა, როდესაც ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები ორგანულ გამხსნელებში შებრუნებულ მიცელებს ქმნიან, წყლის მცირე რაოდენობა და მისი წყალში ხსნადი ჭუჭყი ხშირად ერთდროულად იხსნება შებრუნებულ მიცელებში.
ქიმწმენდისთვის გამოყენებული ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები უნდა აკმაყოფილებდეს შემდეგ პირობებს:
① მას უნდა შეეძლოს სარეცხ გამხსნელებში გახსნა და საპირისპირო მიცელების წარმოქმნა, ასევე უნდა ჰქონდეს ხსნადი წყლის დამატების საკმარისი უნარი. შეუძლია ეფექტურად გაფანტოს მყარი ჭუჭყი და უზრუნველყოს სუსპენზიის კარგი სტაბილურობა ორგანულ გამხსნელებში;
③ სარეცხსა და ფილტრებზე დაბალი ნარჩენი ადსორბცია;
④ არ აქვს სუნი, არ ახდენს უარყოფით გავლენას სარეცხზე, არ არის კოროზიული ლითონების მიმართ და ა.შ.
ქიმწმენდისთვის გამოყენებული ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები ადვილად ხსნადი უნდა იყოს ორგანულ გარემოში.
ხშირად გამოყენებული პირობა მოიცავს:
① ანიონური ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები, როგორიცაა ნავთობის სულფონატი, ნატრიუმის ალკილბენზოლსულფონატი (ან ამინის მარილი) და ნატრიუმის სუქცინატ სულფონატი;
② არაიონური ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები, როგორიცაა პოლიოქსიეთილენალკილის სპირტის ეთერები, პოლიოქსიეთილენალკილფენოლები, პოლიოქსიეთილენალკილამიდები და ა.შ.
გამოქვეყნების დრო: 2024 წლის 18 სექტემბერი
